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涂膠顯影設(shè)備產(chǎn)品及廠家
FX88全自動(dòng)涂膠機(jī)
fx88全自動(dòng)涂膠機(jī)適用于4~6英寸晶圓的涂膠和涂源。設(shè)備全自動(dòng)上下片,全自動(dòng)定中心,全自動(dòng)滴膠,全自動(dòng)烘烤。
更新時(shí)間:
2024-10-24
該公司產(chǎn)品分類:
無(wú)錫凡宣機(jī)電設(shè)備有限公司
KS-S150星型全自動(dòng)涂膠顯影機(jī)
ks-s150星型全自動(dòng)涂膠顯影機(jī)用于led-pss工藝的涂膠顯影制程及化合物半導(dǎo)體的涂膠顯影等制程?杉嫒菟{(lán)寶石、砷化鎵和碳化硅等材質(zhì)的晶圓,產(chǎn)品涉及多個(gè)應(yīng)用域,涂膠機(jī)產(chǎn)能大于190片/小時(shí)。設(shè)備通過(guò)了csa認(rèn)證。
更新時(shí)間:
2024-08-14
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
KS-FT200/300 道8/12寸涂膠顯影機(jī)
ks-ft200/300系列堆疊式高產(chǎn)能道涂膠顯影機(jī),為我司自主研發(fā)的突破晶圓道28nm工藝節(jié)點(diǎn)及以上工藝制程,適用于arf、krf、i-line、pi、barc,soc,sod,sog等多種材料涂覆顯影工藝的機(jī)臺(tái)。支持與光刻機(jī)聯(lián)機(jī)作業(yè)。該系列機(jī)臺(tái)通過(guò)各種行業(yè)認(rèn)證,占地面積小、可靠性高、易于維護(hù),滿足各種功能芯片制程需求。
更新時(shí)間:
2024-08-14
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
KS-S300-SP12寸噴霧式涂膠機(jī)
ks-s300全自動(dòng)噴霧式涂膠機(jī)通過(guò)超聲波將光阻霧化為微小顆粒,適用于在大深寬比的圖形表面以高分辨率均勻地涂敷光刻膠,可以有效覆蓋溝槽的側(cè)壁和邊緣,避免溝槽堆積,節(jié)省光刻膠;同時(shí)針對(duì)輕薄易碎的襯底,承片臺(tái)靜態(tài)噴霧式涂膠可以避免襯底在高速旋轉(zhuǎn)時(shí)碎裂的風(fēng)險(xiǎn)。產(chǎn)品可應(yīng)用于封裝、微機(jī)電系統(tǒng)制造等域。該產(chǎn)品已通過(guò)semi s2認(rèn)證。
更新時(shí)間:
2024-08-14
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
KS-M300涂膠顯影半自動(dòng)機(jī)臺(tái)
ks-m300半自動(dòng)機(jī)臺(tái)可用于單片晶片涂膠、顯影、噴膠、清洗、刻蝕、去膠工藝及掩膜板涂膠、顯影、清洗工藝。適用于小批量生產(chǎn)的工藝試驗(yàn)和生產(chǎn)線。占地面積小,操作時(shí)手動(dòng)上下片,工藝過(guò)程可自動(dòng)完成。
更新時(shí)間:
2024-08-14
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
KS-CM300/200單片式化學(xué)清洗機(jī)
ks-cm300/200 單片式化學(xué)清洗機(jī)適用于沉積清洗、蝕刻后清洗、離子注入后清洗、cmp后清洗等多種段工藝(feol)和后段工藝(beol)清洗進(jìn)程,可適配高溫spm工藝,工藝覆蓋率達(dá)80%以上;搭載獨(dú)立開(kāi)發(fā)的新一代高清洗效率低損傷射流噴嘴,潔凈度達(dá)到先進(jìn)制程所需水平。
更新時(shí)間:
2024-08-14
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
KS-S300-SR單片清洗機(jī)
用于晶圓封裝及oled中的清洗工藝,配合清洗化學(xué)藥液、高壓水清洗、常壓水清洗、兆聲波清洗、二流體水清洗、毛刷和噴灑清洗劑等手段,可有效去除晶圓表面顆粒、有機(jī)物、金屬離子等雜質(zhì),同時(shí)適用于tsv后深孔內(nèi)含氟聚合物的清洗。
更新時(shí)間:
2024-08-14
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
KS-C30012寸 集束型涂膠顯影機(jī)
ks-c300涂膠顯影機(jī)可用于封裝、 mems、oled等域的涂覆顯影制程,每小時(shí)可加工180片晶片,同時(shí)產(chǎn)品可兼容不同材質(zhì)的晶片如硅、玻璃片、鍵合片、化合物等。產(chǎn)品可應(yīng)用于邏輯類、存儲(chǔ)類芯片、攝像頭芯片、功率器件芯片、oled制造等域。國(guó)產(chǎn)化集成電路設(shè)備的成功應(yīng)用為客戶節(jié)約了大量成本。產(chǎn)品通過(guò)semi s2認(rèn)證。
更新時(shí)間:
2024-08-14
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
KS-CF300/200-8SR全自動(dòng)SCRUBBER清洗機(jī)
清洗機(jī)可以用于對(duì)晶圓表面,背面及晶圓邊緣的清洗,通過(guò)創(chuàng)新研發(fā)的二流體噴嘴技術(shù)可將附著在晶圓表面的細(xì)微顆粒污染物去除,實(shí)現(xiàn)高效去除。通過(guò)大量仿真與工藝試驗(yàn)相結(jié)合,優(yōu)化出佳的清洗工藝參數(shù),確保不損傷晶圓表面的圖形;對(duì)于微米別大顆粒,采用特殊材料的毛刷或高壓噴淋對(duì)晶圓進(jìn)行擦洗去除。配合晶圓翻轉(zhuǎn)裝置和夾持式承片臺(tái),可在同一臺(tái)設(shè)備中實(shí)現(xiàn)對(duì)晶圓的正反兩面進(jìn)行清洗。
更新時(shí)間:
2024-08-14
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
DM200-SE全封閉式桌面顯影機(jī)
鈣鈦礦用涂膜機(jī),配備4.3寸全彩觸屏,操作便捷。采用硬質(zhì)陽(yáng)氧化鋁面板,帶真空吸附,確保涂膜穩(wěn)定。精準(zhǔn)控制移動(dòng)速率,提高涂膜重復(fù)性?蛇x配多種涂膜工具,適應(yīng)不同需求。風(fēng)刀角度與高度可調(diào),工藝靈活。是高效、精密的涂膜解決方案。
更新時(shí)間:
2024-08-13
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
PF200-H鈣鈦礦用涂膜機(jī)
鈣鈦礦用涂膜機(jī),配備4.3寸全彩觸屏,操作便捷。采用硬質(zhì)陽(yáng)氧化鋁面板,帶真空吸附,確保涂膜穩(wěn)定。精準(zhǔn)控制移動(dòng)速率,提高涂膜重復(fù)性。可選配多種涂膜工具,適應(yīng)不同需求。風(fēng)刀角度與高度可調(diào),工藝靈活。是高效、精密的涂膜解決方案。
更新時(shí)間:
2024-08-13
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
HP100-SE標(biāo)準(zhǔn)型程控烤膠機(jī)
lebo science hp100-se程控烤膠機(jī),7寸觸屏plc控,硬質(zhì)陽(yáng)氧化鋁面板,優(yōu)異性能,業(yè)服務(wù),實(shí)驗(yàn)理想之選。
更新時(shí)間:
2024-08-13
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
HP100-HT-CTM高溫型烤膠機(jī)
hp100-ht-ctm高溫型烤膠機(jī),不銹鋼鍍陶瓷加熱,觸屏控溫,獨(dú)立電路,隔熱設(shè)計(jì),安全耐用,高溫均勻,適合精密實(shí)驗(yàn)。
更新時(shí)間:
2024-08-13
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
HP6精密型烤膠機(jī)
hp6精密型烤膠機(jī),全鋁機(jī)身,高精度控溫,獨(dú)立電路,真空吸附,數(shù)顯溫控,可選線性控溫,小巧便攜,適合手套箱使用。
更新時(shí)間:
2024-08-13
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
IC8000-S控溫型勻膠機(jī)
控溫型勻膠機(jī),性能優(yōu)秀,業(yè)服務(wù),高品質(zhì)材料,安全設(shè)計(jì),桌面實(shí)驗(yàn)理想選擇,為科學(xué)儀器域的優(yōu)選產(chǎn)品
更新時(shí)間:
2024-08-13
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
PCD3012BPCD3012B低諧波高功充因數(shù)分段線性恒流LED控制芯片
pcd 3012b 是一款五段低 pcd 3012b 是一款五段低 thd 、高功率因數(shù) led 線性恒流控制芯片,芯片集成了 700v 高壓 mosfet ,采用獨(dú)特創(chuàng)新的器件工藝技術(shù),具有優(yōu)越的抗雪崩擊穿及浪涌能力,在無(wú)保護(hù)器件時(shí)可通過(guò)650v 雷擊浪涌測(cè)試,內(nèi)置過(guò)溫保護(hù)功能,提升系統(tǒng)應(yīng)用可靠性?赏ㄟ^(guò)調(diào)節(jié)rext 電阻值對(duì)輸出電流進(jìn)行調(diào)節(jié)。同時(shí)pcd3012b 集成了輸入線電壓補(bǔ)償功能, 在
更新時(shí)間:
2024-05-23
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市集芯微電子有限公司
FX86系列全自動(dòng)顯影機(jī)
本機(jī)采用plc控制,性能更穩(wěn)定,故障率低,維修更方便;增加了手動(dòng)功能,可以單步偵測(cè)每個(gè)單元的動(dòng)作。人機(jī)界面采用觸摸屏, 全中文界面,友好,易學(xué),簡(jiǎn)單培訓(xùn)就可以上機(jī)操作。主體電機(jī)采用飼服和步進(jìn),穩(wěn)定可靠,不產(chǎn)生顆粒。噴頭采用雙流體實(shí)心錐噴頭,高效省液。液盤采用ptfe底座和不銹鋼外殼,不會(huì)變形,易清理。
更新時(shí)間:
2024-01-24
該公司產(chǎn)品分類:
無(wú)錫凡宣機(jī)電設(shè)備有限公司
WS-650Mz-23NPPBLaurell 勻膠旋涂?jī)x
laurell勻膠旋涂?jī)x ws-650mz-23nppb 技術(shù)參數(shù):(1)腔體尺寸:9.5英寸 (241 毫米);(2)wafer芯片尺寸:10-150mm直徑圓片,方片125x125mm;(3)轉(zhuǎn)動(dòng)速度:100-12,000rpm;(4)旋涂加速度:1-12000rpm/sec(空載);(5)馬達(dá)旋涂轉(zhuǎn)速:穩(wěn)定性能誤差<± 1 %;
更新時(shí)間:
2023-08-03
該公司產(chǎn)品分類:
武漢月憶神湖科技有限公司
POLOS Advanced系列濕法刻蝕處理系統(tǒng)
濕法刻蝕處理系統(tǒng)又稱自動(dòng)顯影系統(tǒng)、自動(dòng)刻蝕系統(tǒng)、自動(dòng)去離子水清洗系統(tǒng)、顯影刻蝕系統(tǒng)、勻膠顯影機(jī)、自動(dòng)刻蝕機(jī)、顯影刻蝕機(jī)、顯影臺(tái)、濕法刻蝕臺(tái)、顯影刻蝕臺(tái)等。polos advanced系列濕法處理系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)涂膠、刻蝕、顯影、清洗等多種工藝,適用于半導(dǎo)體、化工材料、硅片、導(dǎo)電玻璃等制版的表面顯影。
更新時(shí)間:
2023-08-03
該公司產(chǎn)品分類:
武漢月憶神湖科技有限公司
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2024/12/22 3:13:54
日本Magnescale(原SONY)磁柵尺
2024/12/22 3:13:21
日本Magnescale(原SONY)磁柵尺
2024/12/22 3:12:40
日本Magnescale(原SONY)磁柵尺
2024/12/22 3:11:56
日本Magnescale(原SONY)磁柵尺
2024/12/22 3:11:08
日本Magnescale(原SONY)磁柵尺
2024/12/22 3:10:34
日本Magnescale(原SONY)磁柵尺
2024/12/22 3:10:04
日本Magnescale(原SONY)磁柵尺
2024/12/22 3:09:31
日本Magnescale(原SONY)磁柵尺
2024/12/22 3:08:56
日本Magnescale(原SONY)磁柵尺
2024/12/22 3:08:22
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2024/12/22 3:07:46
日本Magnescale(原SONY)磁柵尺
2024/12/22 3:07:07
日本Magnescale(原SONY)磁柵尺
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日本Magnescale(原SONY)磁柵尺
2024/12/22 3:05:45
日本Magnescale(原SONY)磁柵尺
2024/12/22 3:04:57
日本Magnescale(原SONY)磁柵尺
2024/12/22 3:04:18
日本Magnescale(原SONY)磁柵尺
2024/12/22 3:03:24
日本Magnescale(原SONY)磁柵尺
2024/12/22 3:02:14
日本Magnescale(原SONY)磁柵尺
2024/12/22 3:01:25
日本Magnescale(原SONY)磁柵尺
2024/12/22 3:00:43
日本Magnescale(原SONY)磁柵尺
2024/12/22 2:59:39
日本Magnescale(原SONY)磁柵尺
2024/12/22 2:58:59
熱門儀器:
液相色譜儀
氣相色譜儀
原子熒光光譜儀
可見(jiàn)分光光度計(jì)
液質(zhì)聯(lián)用儀
壓力試驗(yàn)機(jī)
酸度計(jì)(PH計(jì))
離心機(jī)
高速離心機(jī)
冷凍離心機(jī)
生物顯微鏡
金相顯微鏡
標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)
生物試劑