光學(xué)測(cè)量?jī)x產(chǎn)品及廠家
絕緣護(hù)套測(cè)量投影儀，電纜外被測(cè)量投影儀，300測(cè)量投影儀是一種光、機(jī)、電一體化的精密高效光學(xué)計(jì)量?jī)x器。測(cè)量投影儀被廣泛應(yīng)用于機(jī)械、儀表、鐘表、電子、電纜、橡膠、彈簧五金、建材、輕工等各行各業(yè)以及院校、研究所、計(jì)量檢定部門的計(jì)量室、試驗(yàn)室和生產(chǎn)車間。測(cè)量投影儀高效率地檢測(cè)各種形狀復(fù)雜工件的輪廓尺寸和表面形狀。
更新時(shí)間:2024-12-23
輪廓測(cè)量投影儀參數(shù)，哪里有測(cè)量線纜絕緣層投影儀，優(yōu)惠的測(cè)量投影儀是一種光、機(jī)、電一體化的精密高效光學(xué)計(jì)量?jī)x器。測(cè)量投影儀被廣泛應(yīng)用于機(jī)械、儀表、鐘表、電子、電纜、橡膠、彈簧五金、建材、輕工等各行各業(yè)以及院校、研究所、計(jì)量檢定部門的計(jì)量室、試驗(yàn)室和生產(chǎn)車間。測(cè)量投影儀高效率地檢測(cè)各種形狀復(fù)雜工件的輪廓尺寸和表面形狀。
更新時(shí)間:2024-12-23
線纜厚度分析測(cè)量投影儀，最新電纜外被測(cè)量投影儀價(jià)格，最實(shí)惠機(jī)械測(cè)量投影儀是一種光、機(jī)、電一體化的精密高效光學(xué)計(jì)量?jī)x器。測(cè)量投影儀被廣泛應(yīng)用于機(jī)械、儀表、鐘表、電子、電纜、橡膠、彈簧五金、建材、輕工等各行各業(yè)以及院校、研究所、計(jì)量檢定部門的計(jì)量室、試驗(yàn)室和生產(chǎn)車間。測(cè)量投影儀高效率地檢測(cè)各種形狀復(fù)雜工件的輪廓尺寸和表面形狀。
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機(jī)械式輪廓測(cè)量投影儀參數(shù)，線纜絕緣厚度測(cè)量投影儀價(jià)格，電纜外被測(cè)量投影儀市場(chǎng)價(jià)格是一種光、機(jī)、電一體化的精密高效光學(xué)計(jì)量?jī)x器。測(cè)量投影儀被廣泛應(yīng)用于機(jī)械、儀表、鐘表、電子、電纜、橡膠、彈簧五金、建材、輕工等各行各業(yè)以及院校、研究所、計(jì)量檢定部門的計(jì)量室、試驗(yàn)室和生產(chǎn)車間。測(cè)量投影儀高效率地檢測(cè)各種形狀復(fù)雜工件的輪廓尺寸和表面形狀。
更新時(shí)間:2024-12-23
影像測(cè)量?jī)x參數(shù)，二次元影像測(cè)量?jī)x的價(jià)格，二次元測(cè)量?jī)x特點(diǎn)主要是彌補(bǔ)了傳統(tǒng)投影儀的不足，采用攝像機(jī)將待測(cè)物體拍攝成圖像，再傳輸?shù)诫娔X，然后用專業(yè)的影像測(cè)量軟件，便能高效檢測(cè)各種復(fù)雜工件的輪廓、表面形狀尺寸、角度及位置。
更新時(shí)間:2024-12-23
線纜檢測(cè)用投影儀，輪廓檢測(cè)投影儀，絕緣護(hù)套檢測(cè)投影儀被測(cè)工件y置于工作臺(tái)上,在透射反射照明下,它由物鏡0成放大實(shí)像y′(倒像)并經(jīng)光鏡m1與m2反射于投影屏p的磨沙面上。
更新時(shí)間:2024-12-23
低倍測(cè)量投影儀，線纜光學(xué)投影儀，數(shù)字式電纜測(cè)量投影儀被測(cè)工件y置于工作臺(tái)上,在透射反射照明下,它由物鏡0成放大實(shí)像y′(倒像)并經(jīng)光鏡m1與m2反射于投影屏p的磨沙面上。
更新時(shí)間:2024-12-23
數(shù)碼管顯示處理器介紹1）點(diǎn)、線、圓、角度、距離、矩形和螺紋等圖形元素的測(cè)量、預(yù)置和構(gòu)造2）座標(biāo)擺正和座標(biāo)平移，方便擺正工件，減少調(diào)整時(shí)間3）三軸的顯示值4）rs232輸出功能（可打。5）多種座標(biāo)顯示方式，極座標(biāo)和直角座標(biāo)、inc座標(biāo)和abs座標(biāo)公制和英制6）對(duì)光柵尺可進(jìn)行線性補(bǔ)償或區(qū)段線性補(bǔ)償7）z軸可接光柵尺或旋轉(zhuǎn)編碼器
更新時(shí)間:2024-12-23
電線電纜測(cè)量投影儀，絕緣護(hù)套測(cè)量?jī)x是一種光、機(jī)、電一體化的精密高效光學(xué)計(jì)量?jī)x器，適用于以二坐標(biāo)測(cè)量為目的的一切應(yīng)用領(lǐng)域,機(jī)械、電子、儀表、塑膠等行業(yè)廣泛使用，符合gb/t2951.1《電纜絕緣和護(hù)套材料通用方法》標(biāo)準(zhǔn)要求。
更新時(shí)間:2024-12-23
愛(ài)色麗標(biāo)準(zhǔn)版新款印刷密度儀exact將色彩測(cè)量和管理提升到一個(gè)新的水平。這是一個(gè)可擴(kuò)展的平臺(tái)，可根據(jù)需要升級(jí)版本，在現(xiàn)場(chǎng)將簡(jiǎn)單的密度儀升級(jí)到先進(jìn)的光譜測(cè)量?jī)x器。愛(ài)色麗標(biāo)準(zhǔn)版新款印刷密度儀，印刷商和包裝轉(zhuǎn)印商能夠真正理解、控制、管理和交流色彩，避免重印和返工。
更新時(shí)間:2024-12-23
通過(guò)使用愛(ài)色麗標(biāo)簽印刷紙品禮盒分光密度儀，印刷和包裝企業(yè)可以顯著縮短印刷準(zhǔn)備時(shí)間，提高印刷質(zhì)量，減少基材和油墨浪費(fèi)，并獲得高效的印刷運(yùn)轉(zhuǎn)。
更新時(shí)間:2024-12-23
日本dnp透射燈箱廠家總代理？哪里有日本dnp燈箱和測(cè)試卡？購(gòu)買dnp品牌產(chǎn)品需要找哪里？歡迎您來(lái)電聯(lián)系蘇州欣美和儀器有限公司；本公司專注顏色管理和攝像頭影像測(cè)試方案，提供反射和透射式燈箱以及一切測(cè)試卡，如分辨率測(cè)試卡，灰度卡，以及提供透射燈箱的燈管配件和電源變壓器等，本公司還專業(yè)維修修理日本dnp透射燈箱。
更新時(shí)間:2024-12-23
aoi可以置于生產(chǎn)線上的多個(gè)位置，但有三個(gè)位子是主要的：1、錫膏印刷之后。將aoi的檢測(cè)放在錫膏印刷機(jī)之后，這是個(gè)典型的放置位置，因?yàn)楹芏嗳毕菔怯捎阱a膏印刷的不良所造成的，如錫膏量不足可能會(huì)導(dǎo)致元件丟失或開(kāi)路的原因。2、回流焊，將檢測(cè)設(shè)備放置于貼片后
更新時(shí)間:2024-12-21
電子除塵箱，可分水平送風(fēng)和垂直送風(fēng)兩大類。電子除塵箱采用初效過(guò)濾器和高效過(guò)濾器對(duì)進(jìn)入操作區(qū)的空氣進(jìn)行兩過(guò)濾，可使工作區(qū)域的潔凈度達(dá)到10、100。整體結(jié)構(gòu)緊湊，外形美觀，箱體全鋼結(jié)構(gòu)噴塑，操作臺(tái)面采用不銹鋼材質(zhì)制造而成，經(jīng)久耐用？赏饨痈呒兊?dú)，氮(dú)膺^(guò)濾組，使用萬(wàn)向管進(jìn)行定位吹掃？蛇x配自動(dòng)選轉(zhuǎn)器（可正反轉(zhuǎn)動(dòng)），便于均勻選轉(zhuǎn)。
更新時(shí)間:2024-12-21
日本rion粒子計(jì)數(shù)器kc-01e ( 光散射法）,液體粒子計(jì)數(shù)器，測(cè)試粒徑（5個(gè)通道）：≥0.3μm， ≥0.5μm ， ≥1μm ， ≥2μm， ≥5μm
更新時(shí)間:2024-12-20
日本rion粒子計(jì)數(shù)器kc-03b ( 光散射法）,測(cè)試粒徑（5個(gè)通道）：≥0.3μm， ≥0.5μm ， ≥1μm ， ≥2μm， ≥5μm
更新時(shí)間:2024-12-20
lfa 467 hyperflash 閃射法導(dǎo)熱儀，自由選擇測(cè)試氣氛，優(yōu)化結(jié)構(gòu)設(shè)置與閃射光源，16位自動(dòng)進(jìn)樣器，高的測(cè)量效率，寬廣的溫度范圍，靈活配備冷卻系統(tǒng)，設(shè)計(jì)獨(dú)特，性能優(yōu)異，配備氙燈光源的，高溫測(cè)試系統(tǒng)，寬廣的溫度范圍，真空密閉爐體，確保氣氛純凈，防止氧化，內(nèi)置微型管式爐，更高的測(cè)量效率，高數(shù)據(jù)采集速率- 用于薄膜與高導(dǎo)熱材料的解決方案
更新時(shí)間:2024-12-20
oai is a world leader in uv liight & energy measurement instrumentation used for reliable accurate calibrated control of the hotolithography processes in the semiconductor
更新時(shí)間:2024-12-20
美國(guó)泰克tek keithley半導(dǎo)體參數(shù)分析儀4200a-scs ，加快半導(dǎo)體設(shè)備、材料和工藝開(kāi)發(fā)的探索、可靠性和故障分析研究。 業(yè)內(nèi)領(lǐng)先性能參數(shù)分析儀，提供同步電流-電壓 (i-v)、電容-電壓 (c-v) 和超快脈沖 i-v 測(cè)量。
更新時(shí)間:2024-12-20
瑞士nanosurf 原子力顯微鏡coreafm ，非常智能地聯(lián)合了原子力顯微鏡的核心部件來(lái)實(shí)現(xiàn)最多功能化與用戶方便使用性. 正是由于這種基礎(chǔ)的設(shè)計(jì), coreafm非常合理的實(shí)現(xiàn)了最優(yōu)化的原子力顯微鏡的功能.
更新時(shí)間:2024-12-20
韓國(guó)ecopia霍爾效應(yīng)測(cè)量系統(tǒng)hms3000，hms5000，用于研究半導(dǎo)體材料/光電材料的電學(xué)特性，可以測(cè)量材料在不同溫度、磁場(chǎng)下的載流子濃度、遷移率、電阻率、霍爾系數(shù)及載流子類型。
更新時(shí)間:2024-12-20
美國(guó) mmr 霍爾效應(yīng)測(cè)量系統(tǒng) h5000，用于研究光電材料的電學(xué)特性，利用范德堡測(cè)量技術(shù)測(cè)量材料在不同溫度、磁場(chǎng)下的載流子濃度、遷移率、電阻率、霍爾系數(shù)及載流子類型。整套系統(tǒng)主要包括控制器、樣品室、磁場(chǎng)三部分。
更新時(shí)間:2024-12-20
半導(dǎo)體測(cè)試探針臺(tái)kup007，emp100c，emp100b，emp50s
更新時(shí)間:2024-12-20
德國(guó)mecwins 掃描式激光分析儀scala，它是用激光入射掃描樣品表面，收集反射信號(hào)得到樣品表面的三維形貌和特征。
更新時(shí)間:2024-12-20
美國(guó)nanovea三維表面形貌儀hs1000型，是一款高速的三維形貌儀，最高掃描速度可達(dá)1m/s,采用國(guó)際領(lǐng)先的白光共聚焦技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)對(duì)材料表面從納米到毫米量級(jí)的粗糙度測(cè)試，具有測(cè)量精度高，速度快，重復(fù)性好的優(yōu)點(diǎn)，該儀器可用于測(cè)量大尺寸樣品或質(zhì)檢現(xiàn)場(chǎng)使用。
更新時(shí)間:2024-12-20
德國(guó) yxlon 高分辨率ｘ射線檢測(cè)設(shè)備 y.cougar smt 平板探測(cè)器（標(biāo)配） y.cheetah 高速平板探測(cè)器（標(biāo)配）
更新時(shí)間:2024-12-20
美國(guó)royec芯片拾取及放置系統(tǒng)die pick & place systems,new !! ap+ 全自動(dòng)芯片分選系統(tǒng)
更新時(shí)間:2024-12-20
美國(guó)royec半自動(dòng)型芯片拾取系統(tǒng)de35-st ,最小200微米芯片拾取,可選配背面，側(cè)面檢測(cè),可選配芯片轉(zhuǎn)向功能.
更新時(shí)間:2024-12-20
美國(guó)rti自動(dòng)特性圖示儀 mt century curve tracer，是一個(gè)性價(jià)比較高的曲線追蹤設(shè)備。最多到96個(gè)channel，提供4種型號(hào)可供客戶選擇，mt century curve tracer 與rti其他大型curve trace擁有一樣的可靠性，功率和軟件。像其他rti機(jī)型一樣，mt century系統(tǒng)的設(shè)計(jì)有與950系列的測(cè)試夾具及其它專用夾具連接的接口。
更新時(shí)間:2024-12-20
德國(guó)klocke nanotech納米級(jí)三維測(cè)量?jī)x3d nanofinger，是一種實(shí)用的納米精度坐標(biāo)和形貌綜合測(cè)量設(shè)備。由臺(tái)架、控制系統(tǒng)、探頭、針尖組成. 可測(cè)量樣品外形尺寸，表面輪廓、粗糙度等，并可與超精密微加工、微組裝系統(tǒng)組合，進(jìn)行在線檢測(cè)、質(zhì)量控制等。
更新時(shí)間:2024-12-20
日本a&d粒子計(jì)數(shù)器（粒度計(jì)）sv-1a,是使用點(diǎn)監(jiān)測(cè)的低成本替代設(shè)備,計(jì)數(shù)值高達(dá)2,000,000個(gè)粒子/ft.
更新時(shí)間:2024-12-20
美國(guó)filmetrics 薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng)f20，f30，f40，f50，f60，f3-xxt 系列，臺(tái)式薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng)
更新時(shí)間:2024-12-20
美國(guó) sonix 超聲波掃描顯微鏡:echo-vs, echo pro™全自動(dòng)超聲波掃瞄顯微鏡,sonix echo vs™ 是專為更高精度要求，更復(fù)雜元器件設(shè)計(jì)的新一代設(shè)備。echo pro™全自動(dòng)超聲波掃瞄顯微鏡,編程自動(dòng)判別缺陷,高產(chǎn)量,無(wú)需人員重復(fù)設(shè)置.
更新時(shí)間:2024-12-20
德國(guó)bruker傅氏轉(zhuǎn)換紅外光譜儀ftir -利用紅外線光譜經(jīng)傅利葉轉(zhuǎn)換進(jìn)而分析雜質(zhì)濃度的光譜分析儀器。
更新時(shí)間:2024-12-20
德國(guó)bruker ft-nir光譜儀tango,mpa,matrix-i.ft-nir光譜儀已經(jīng)在包括制藥，食品，農(nóng)業(yè)和化學(xué)行業(yè)在內(nèi)的所有行業(yè)的質(zhì)量控制應(yīng)用中得到了很好的應(yīng)用。它為耗時(shí)的濕法化學(xué)方法和色譜技術(shù)提供了一種實(shí)用的替代方法。ft-nir無(wú)破壞性，不需要樣品制備或危險(xiǎn)化學(xué)品，使其定量和定性分析快速可靠。
更新時(shí)間:2024-12-20
德bruker光學(xué)輪廓儀contorugt-表面量測(cè)系統(tǒng)-供生產(chǎn)qc/qa及研發(fā)研用的非接解觸型光學(xué)輪廓儀
更新時(shí)間:2024-12-20
sentech ald實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)儀是一種新型的光學(xué)診斷工具，是心靈超高分辨率的單一ald循環(huán)。在不破壞真空的條件下分析薄膜特性(生長(zhǎng)速率，厚度，折射率)，在短時(shí)間內(nèi)開(kāi)發(fā)新工藝、實(shí)時(shí)研究ald循環(huán)中的反應(yīng)機(jī)理是sentech ald實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)儀的主要應(yīng)用。
更新時(shí)間:2024-12-20
美國(guó)ogp光學(xué)式坐標(biāo)測(cè)量?jī)x zip 250 ，5:1 accucentric 電動(dòng)變焦透鏡，在每次放大變倍時(shí)自動(dòng)校準(zhǔn)，可選配接觸式探頭、激光和微型探針。
更新時(shí)間:2024-12-20
jy—pha接觸角測(cè)定儀，用于液體對(duì)固體的浸潤(rùn)性，通過(guò)測(cè)量液體對(duì)固體的接觸角、計(jì)算、測(cè)定液體對(duì)固體的附著力，張力及固體表面能等指標(biāo)。
更新時(shí)間:2024-12-20
100標(biāo)準(zhǔn)型接觸角測(cè)量?jī)x，采用高性能日本原裝進(jìn)口工業(yè)機(jī)芯，工業(yè)級(jí)連續(xù)變倍顯微鏡，確保圖像的真實(shí)性，獲取最佳的成像效果。
更新時(shí)間:2024-12-20
美associated 耐壓測(cè)試儀hypotmax 7710 ，是一款12 kvdc hipot測(cè)試儀，用于為電纜、電線、線束和電氣元件測(cè)試提供高直流輸出電壓。該產(chǎn)品非常易于使用，并為安全有效的測(cè)試提供了各種特性。它有專利smartgfi®操作,它還包括電荷lo®和斜坡嗨®系統(tǒng)。最后，該系統(tǒng)具有遠(yuǎn)程安全聯(lián)鎖和數(shù)控電弧檢測(cè)系統(tǒng)。
更新時(shí)間:2024-12-20
montana 新型超精細(xì)多功能無(wú)液氦低溫光學(xué)恒溫器完全擺脫了液氦。完全閉循環(huán)的制冷系統(tǒng)只需要極少量的氦氣即可讓系統(tǒng)達(dá)到極限低溫。系統(tǒng)具有超快降溫、超低震動(dòng)和超高的溫度穩(wěn)定性。全自動(dòng)化的控制軟件，簡(jiǎn)化了用戶的操作流程。
更新時(shí)間:2024-12-20
德國(guó)attocube磁共振顯微鏡/低溫強(qiáng)磁場(chǎng)磁共振顯微鏡attocsfm,完美集成了由完全無(wú)磁性材料制備的高數(shù)值孔徑（na）共聚焦顯微鏡與原子力顯微鏡來(lái)滿足odmr實(shí)驗(yàn)的需求。
更新時(shí)間:2024-12-20
sinton少子壽命測(cè)試儀wct-120，suns-voc，硅片少子壽命測(cè)試系統(tǒng)，采用了獨(dú)特的測(cè)量和分析技術(shù)，包括準(zhǔn)穩(wěn)定態(tài)光電導(dǎo)(qsspc)測(cè)量方法？伸`敏地反映單、多晶硅片的重金屬污染及陷阱效應(yīng),表面復(fù)合效應(yīng)等缺陷情況。
更新時(shí)間:2024-12-20
布魯克bruker白光干涉光學(xué)輪廓儀 contour x, 滿足微納米表面測(cè)量需要
更新時(shí)間:2024-12-20
布魯克bruker contourx-200 三維光學(xué)輪廓儀，靈活的臺(tái)式表面形貌測(cè)量設(shè)備
更新時(shí)間:2024-12-20
布魯克 dektakxt 臺(tái)階儀（探針式表面輪廓儀）設(shè)計(jì)創(chuàng)新，實(shí)現(xiàn)了更高的重復(fù)性和分辨率，垂直高度重復(fù)性高達(dá) 5å。第十代 dektakxt臺(tái)階儀（探針式表面輪廓儀）的技術(shù)突破，實(shí)現(xiàn)了納米尺度的表面輪廓測(cè)量，從而可以廣泛的應(yīng)用于微電子器件，半導(dǎo)體，電池，高亮度發(fā)光二管的研發(fā)以及材料科學(xué)域。
更新時(shí)間:2024-12-20
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-41b，可檢測(cè)光阻產(chǎn)品、sog 等產(chǎn)品中 0.1um 的顆粒。
更新時(shí)間:2024-12-20
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-19f,寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.03~0.13um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2024-12-20
最新產(chǎn)品
- 優(yōu)勢(shì)供應(yīng)#歐洲原廠進(jìn)口#STAUBLIB33580028 2024/12/23 13:22:39
- ODU插針安裝座 祥樹(shù) 優(yōu)勢(shì)報(bào)價(jià) 2024/12/23 13:21:51
- Human NAMPT ELISA Kit 2024/12/23 13:21:34
- Human NAMPT ELISA Kit 2024/12/23 13:21:34
- Human NAMPT ELISA Kit 2024/12/23 13:21:33
- Human NAMPT ELISA Kit 2024/12/23 13:21:33
- 優(yōu)勢(shì)供應(yīng)#歐洲原廠進(jìn)口#HYDAC備件 2024/12/23 13:21:32
- 白蟻監(jiān)測(cè)系統(tǒng) 2024/12/23 13:21:17
- MOOG備件 上海祥樹(shù) 優(yōu)勢(shì)報(bào)價(jià) 2024/12/23 13:20:48
- 優(yōu)勢(shì)供應(yīng)#歐洲原廠進(jìn)口#KSR KUBLER備件 2024/12/23 13:20:47
- ROEMHELD備件 上海祥樹(shù) 優(yōu)勢(shì)報(bào)價(jià) 2024/12/23 13:19:48
- 優(yōu)勢(shì)供應(yīng)#歐洲原廠進(jìn)口#SCHMERSAL備件 2024/12/23 13:19:37
- 優(yōu)勢(shì)供應(yīng)#歐洲原廠進(jìn)口#B+W備件BWU2548 2024/12/23 13:18:01
- 優(yōu)勢(shì)供應(yīng)#歐洲原廠進(jìn)口#K+N旋鈕開(kāi)關(guān) 2024/12/23 13:16:47
- 優(yōu)勢(shì)供應(yīng)#歐洲原廠進(jìn)口#TR旋轉(zhuǎn)編LEONI龜殼 2024/12/23 13:16:01
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