其他產(chǎn)品及廠家

快速熱處理退火爐，半導體RTP快速退火爐
快速熱處理退火爐，半導體rtp快速退火爐為我公司根據(jù)客戶需求業(yè)定制的熱處理設備，半導體rtp快速退火爐主要用于：快速燒結(jié)、快速退火等工藝。具有：溫度均勻、控制穩(wěn)定等特點，觸摸屏操作方式（設備小巧，節(jié)約空間）。
更新時間:2024-12-20
晶圓退火烤箱，500度退火氮氣烘箱
晶圓退火烤箱，500度退火氮氣烘箱所述多個區(qū)域在每個所述升溫階段中的溫度不同;對所述多個區(qū)域進行保溫處理;對多個區(qū)域采用氮氣保護，該氮氣烘箱采用輔助降溫方式進行降溫處理。
更新時間:2024-12-20
鼓風式真空烘箱，真空鼓風干燥箱的產(chǎn)品研發(fā)#技術(shù)新聞
鼓風式真空烘箱，真空鼓風干燥箱用于半導體/電子/新材料/新能源等行業(yè)。bcb、pi、pbo膠固化，lcp新材料、鋰電池等產(chǎn)品熱處理及其他物質(zhì)的加速干燥。
更新時間:2024-12-20
HMDS增粘裝置，涂敷HMDS增粘劑的裝置2023動態(tài)已更新《新品/推薦》
hmds增粘裝置，涂敷hmds增粘劑的裝置通過對箱體內(nèi)預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，增加了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
更新時間:2024-12-20
快速熱處理退火爐，半導體RTP快速退火爐#2023價格已更新
快速熱處理退火爐，半導體rtp快速退火爐為我公司根據(jù)客戶需求業(yè)定制的熱處理設備，半導體rtp快速退火爐主要用于：快速燒結(jié)、快速退火等工藝。具有：溫度均勻、控制穩(wěn)定等特點，觸摸屏操作方式（設備小巧，節(jié)約空間）。
更新時間:2024-12-20
HMDS增粘裝置，涂敷HMDS增粘劑的裝置
hmds增粘裝置，涂敷hmds增粘劑的裝置通過對箱體內(nèi)預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，增加了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
更新時間:2024-12-20
無塵高溫氮氣烤箱,500度充氮厭氧烘箱定制
無塵高溫氮氣烤箱,500度充氮厭氧烘箱定制，氮氣烤箱應用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、銀膠固化、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb板、ito玻璃等精密電子、太陽能、新材料等行業(yè).
更新時間:2024-12-20
LCP膜用高溫無氧烘箱
lcp膜用高溫無氧烘箱lcp 薄膜需要進行厚度組織重整及配套的熱處理優(yōu)化，才能滿足高頻高速服役環(huán)境下的性能要求.
更新時間:2024-12-20
鼓風式真空烘箱，真空鼓風干燥箱
鼓風式真空烘箱，真空鼓風干燥箱用于半導體/電子/新材料/新能源等行業(yè)。bcb、pi、pbo膠固化，lcp新材料、鋰電池等產(chǎn)品熱處理及其他物質(zhì)的加速干燥。
更新時間:2024-12-20
PI烘箱，厭氧烘箱
pi烘箱，厭氧烘箱室溫至150℃時，主要為氧元素、水分的脫除；150℃至320℃時，主要是薄膜內(nèi)殘余溶劑的揮發(fā)，同時發(fā)生脫水環(huán)化。
更新時間:2024-12-20
智能黑蒜設備，快速加工黑蒜機
智能黑蒜設備，快速加工黑蒜機適用于黑蒜發(fā)酵，黑蒜加工或黑蒜試驗，家用黑蒜制作。發(fā)酵黑蒜周期短，黑蒜成品率高，口感好。
更新時間:2024-12-20

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